本发明公开了一种平面直光波导的制备方法，包括以下步骤：(1)选取基片，在所述基片上设置光刻胶；(2)对步骤(1)中设置光刻胶的基片进行紫外激光干涉光刻，在所述光刻胶表面形成条形阵列波导图形；(3)利用掩膜对步骤(2)紫外激光干涉光刻过的基片进行紫外曝光，形成条形阵列波导图形中条形宽度渐变的平面直光波导图形；(4)对经过步骤(3)紫外曝光过的基片进行显影，获得宽度渐变的光刻胶型平面直光波导。该方法利用激光干涉光刻及紫外二次曝光实现了宽度渐变平面直光波导的制备，经济实惠、耗时短，可实现批量化生产。