本发明公开了一种分辨率可调的浸没式表面等离激元干涉光刻方法。其步骤为：(1)在玻璃平板表面制作铝掩模板；(2)在铝掩模板上旋涂一层聚甲基丙烯酸甲(PMMA)；(3)静置步骤(2)中的PMMA至其完全固化；(4)在PMMA表面镀一层附加介质薄膜；(5)在附加介质薄膜表面再镀一层附加铝薄膜；(6)在光刻胶基底上镀一层铝薄膜；(7)在光刻胶基底的铝薄膜表面旋涂一层光刻胶；(8)在光刻胶表面滴上浸没液体；(9)将带有附加薄膜的铝掩模板放置到光刻胶表面上方，让浸没液体将铝掩模板的附加铝薄膜和光刻胶连接在一起；(10)用单色平行光垂直照射掩模板，完成曝光；(11)对光刻胶进行显影，得到光刻图形。本发明可以在照明波长不变的条件下，制作不同周期的纳米线阵列或光栅，并且由于使用了浸没液体，便于大批量地、高效地在不同基底上制作纳米线阵列或光栅。