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专利名称曝光装置及间隔物的制作方法
申请日2018-12-24
申请号/专利号CN201811581610.X
专利权人惠科股份有限公司
申请人惠科股份有限公司
发明人/设计人秦艺
公告日2019-04-05
公告号CN109581756A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明适用于显示技术领域,提供了一种曝光装置及间隔物的制作方法,曝光装置包括第一工作位、第二工作位、光罩组件、第一曝光光源组件和第二曝光光源组件,光罩组件包括第一光罩和第二光罩,第一光罩具有多个第一不透光区,第一不透光区包括主不透光区和辅不透光区,第二光罩具有多个对应主不透光区的第二不透光区,第一光罩和第一曝光光源组件设于第一工作位,第二光罩和第二曝光光源组件设于第二工作位,从第一曝光光源组件照射至第一光罩的能量大于从第二曝光组件照射至第二光罩的能量,借由调整曝光的能量可以容易地获得所需要的高度差,适用于多种高度差的结构的制作,无需为了获得不同透光率而制作新的光罩,降低了生产成本。
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