本发明提供一种蚀刻监测装置及蚀刻监控方法。所述蚀刻监测装置包括：多个监测单元，每一个监测单元均包括一个入射光源和一个与该入射光源对应的信号处理模块；每一个入射光源对应待蚀刻的基板的上的一个蚀刻区域设置，不同的入射光源对应不同的蚀刻区域；所述入射光源用于向其对应的蚀刻区域发射入射光；所述信号处理模块，用于接收反射光，并根据所述反射光的强度，将所述反射光转换为相应的电信号，通过监测各个信号处理模块转换得到的电信号的变化，确定所述待蚀刻的基板的蚀刻状态，能够有效监测蚀刻过程，为蚀刻质量分析提供准确的数据，促进蚀刻工艺的开发及蚀刻精度的提升。