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专利名称背光结构
申请日2018-12-21
申请号/专利号CN201811569734.6
专利权人武汉华星光电技术有限公司
申请人武汉华星光电技术有限公司
发明人/设计人查国伟
公告日2019-03-01
公告号CN109407404A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明公开一种背光结构,其包含一基板;一发光二极管阵列层,设置在所述基板上;一平坦层,设置在所述发光二极管阵列层上;一复合介质层,设置在所述平坦层上;一金属栅线层,具有数条金属线配置在所述复合介质层上;一荧光层,设置在所述金属栅线层上;以及一扩散层,设置在所述荧光层上;其中所述复合介质层包含一第一介质、一第二介质以及一第三介质,所述第二介质夹设于所述第一介质与所述第三介质之间,所述第一介质的折射率与所述第三介质的折射率均小于所述第二介质的折射率。
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