本发明涉及用于互连与安装装置的伽玛沟槽阵列，所揭示的是具有伽玛(γ)沟槽的装置。所述γ沟槽可用于形成光纤阵列。可通过修改蚀刻掩模的阻剂特征，使用诸如RIE的干蚀刻来形成所述γ沟槽，以具有凸形弯曲侧壁。通过该干蚀刻将所述阻剂特征的轮廓转移至该衬底，以形成所述γ沟槽。所述γ沟槽未利用含K蚀刻剂形成，不仅避免程序工具的K+离子污染，也避免因处理含碱装置所造成的健康问题。