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专利名称阵列基板及其制作方法、显示装置
申请日2018-11-15
申请号/专利号CN201811362315.5
专利权人京东方科技集团股份有限公司
申请人京东方科技集团股份有限公司
发明人/设计人林允植;商广良
公告日2019-01-11
公告号CN109188799A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置。该阵列基板包括衬底基板和阵列分布在衬底基板上的多个像素单元,像素单元包括透明隔离层、相变材料层和具有光反射作用的像素电极,透明隔离层和相变材料层依次层叠在像素电极上,当白光依次透射相变材料层和透明隔离层时,相变材料层和透明隔离层之间的干涉效应会改变透射光谱,使透射的光线会显示出一定的颜色,透射的光线在像素电极的作用下反射后可以进入观察者眼中,这样不设置彩膜基板也可以进行颜色显示,从光线入射相变材料层到光线经过像素电极反射后出射相变材料层的过程中,产生的总的光损失相对于光线两次透射彩膜层时产生的总的光损失要低,提高了反射式液晶显示装置的亮度。
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