本发明属于光学减反膜系设计，涉及一种基于晶圆基底易刻蚀的减反膜系。该膜系由五层非规整高低折射率膜层在晶圆基底上交替镀制而成，在晶圆基底(1)上面依次镀制高低折射率的膜层：其中第二层(3)、第四层(5)为高折射率膜层，采用TiO2或Ta2O5；第一层(2)、第三层(4)、第五层(6)为低折射率膜层，采用SiO2；各层膜厚度在0.2到2个标准波长之间；在晶圆基底另一面上沉积相同的膜层；本发明在入射角45°时，薄膜在1550nm±5nm波段内透射率大于99.9％，且便于刻蚀成型。