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专利名称一种光电耦合机构及其制造方法
申请日2018-11-09
申请号/专利号CN201811328379.3
专利权人中国电子科技集团公司第三十研究所
申请人中国电子科技集团公司第三十研究所
发明人/设计人毛久兵;杨伟;李建平;冯晓娟;杨平;吴圣陶;刘恒;刘鹏;刘平;李澄宇;杨剑
公告日2019-03-01
公告号CN109407225A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明公开了一种光电耦合机构及其制造方法,耦合机构采用刚性印制电路板基材制成,所述基材具有相对的第一表面和第二表面以及第一凹槽和第二凹槽;所述第一凹槽具有相互垂直的第一反射面和第二平面,所述第一反射面与基材的第一表面的夹角为43°到47°,在第一反射面上镀有金属反射膜或介质反射膜;在第一凹槽和第二凹槽之间设置有光纤定位沟槽。本发明在刚性印制电路板材料上制作加工光电耦合机构,并固定光纤阵列互联基板,与传统印制电路板制作工艺兼容,无需开发新的层压工艺流程和设备;本发明结构简单,制造方法可实施性强,成本低,装配工艺简单,公差容限宽泛,可提高并行光电阵列芯片与光纤阵列之间的耦合效率。
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