本发明公开了一种抗污染真空减反膜及其制备方法，属于光学材料技术领域。本发明通过在溶胶合成完成后加入改性剂2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7‑全氟‑1,8‑辛二醇，对生成的二氧化硅表面进行氟化改性，改性剂为全氟取代的二醇，同时采用六氟‑2‑甲基异丙基丙烯酸酯聚合物作为填充剂，从而在真空装置中也能保证该增透膜具有很高的性能。本发明制备的真空减反膜其表面自由能低，油脂或者水汽不易吸附于表面，在351nm的紫外波段具有＆gt;99％的高透射率，可实现强激光装置中三倍频激光的高能输出，在含有有机污染源的真空环境中放置数天后透射率基本保持不变。