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专利名称彩膜基板的制备方法、量子点转光膜及显示装置
申请日2018-11-02
申请号/专利号CN201811300464.9
专利权人京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司
申请人京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司
发明人/设计人禹钢;于晶;陈右儒
公告日2018-12-21
公告号CN109061937A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类

摘要

本发明涉及显示领域,特别涉及彩膜基板的制备方法、量子点转光膜及显示装置。所述彩膜基板的制备方法为:在衬底基板上形成黑矩阵,所述黑矩阵限定出多个像素区域;将组分A滴加在所述像素区域内,然后将组分B滴加至所述组分A表面;A组分的密度小于B组分的密度。在本发明中,采用偶氮体系或者氧化还原体系的引发剂,引发了丙烯酸酯类单体完成聚合,实现了低温固化,避免了量子点的热淬灭效应和膜固化的不均匀性,且引发剂产生的气体形成气泡充当散射子,能提高蓝光在彩膜内的光程,从而提高蓝光的吸光率。
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