本发明提供了一种低电磁干扰功率器件终端结构的制造工艺，所述工艺制得的终端结构包括：从下至上依次层叠设置的金属化漏极、第一导电类型半导体衬底和第一导电类型半导体外延层，以及第二导电类型半导体主结、第二导电类型半导体等位环、第一导电类型截止环、第二导电类型半导体场限环、第一介质层、第二介质层、第三介质层、导电场板、电阻和金属化源极。本发明能够在场限环和场板之间引入HK介质层，由半导体场限环、HK介质层和场板构成MIS电容结构，并与相邻的多晶硅电阻串联，从而在源极和漏极高电位之间形成了RC吸收网络，能够有效抑制功率器件在快速开关中产生的dv/dt和di/dt，缓解EMI噪声。