本发明提供一种连续式真空镀膜设备，该连续式真空镀膜设备包括依次设置的第一升降台、镀膜装置以及第二升降台，第一升降台和第二升降台均能够在上工位和下工位之间升降，且在第一升降台和第二升降台上均设置有用于传输托盘的第一传输装置和第二传输装置；回传机构，用于在第一升降台和第二升降台均位于下工位时在二者之间传输托盘。本发明提供的连续式真空镀膜设备，其可以在需要基片进行多次镀膜时自动对基片进行连续传送，从而不仅可以实现基片的连续多次镀膜，而且可以降低人工成本，提高生产效率。