本发明公开了一种光刻机系统及光刻方法，光刻机系统包括一中央光源模块，多个光刻机主机，光源传输模块及光源控制模块，中央光源模块通过光源传输模块连接光源控制模块，光源控制模块通过光源传输模块分别连接各光刻机主机，光源控制模块从中央光源模块所提供的光源中分离出目标光刻机主机所需波段的光源，并传输至目标光刻机主机，向各目标光刻机主机同时提供光刻工艺所需的曝光能量。本发明通过将一台中央光源模块所产生的光源通过光源传输模块和光源控制模块，同时传输给两台或多台光刻机主机，从而可提供每台光刻机主机光刻工艺所需的曝光能量，显著提高光刻机光源使用效率，降低光刻机系统导入成本和维护成本。