本发明提供了一种图形传递方法，包括以下步骤：提供一半导体衬底，在所述半导体衬底上依次形成硬掩模层和图形化极紫外光刻胶层；以所述图形化极紫外光刻胶层为掩模，刻蚀所述硬掩模层，并将图形化极紫外光刻胶层中的图形传递至所述硬掩模层中，以形成图形化硬掩模层，所述图形化硬掩模层具有开口；在所述开口中形成填充层；以及去除所述硬掩模层，以暴露出所述半导体衬底，所述半导体衬底上保留所述开口中的填充层，以实现图形化极紫外光刻胶层中的低密度图形的负向传递。