本申请公开了一种反溅射率的测量方法，包括：在晶圆上通过溅射工艺形成第一薄膜层；在第一薄膜层上，同时通过溅射工艺和反溅射工艺形成第二薄膜层，第一薄膜层和第二薄膜层包括相同的材料；通过第一薄膜层和第二薄膜层的厚度差值，以及形成第二薄膜层的时间计算得到反溅射率。本申请通过在晶圆上溅射沉积第一薄膜层，在第一薄膜层上通过溅射和反溅射工艺形成第二薄膜层，通过第一薄膜层和第二薄膜层的厚度，形成第二薄膜层的时间计算得到反溅射率，由于第一薄膜层和第二薄膜层都是在同一晶圆上形成，因此在测量过程中只需使用一片晶圆即可测量得到反溅射率，提高了晶圆的使用率的同时减少了测量的时间，提高了测量效率。