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专利名称一种自清洁防护罩
申请日2019-10-22
申请号/专利号CN201911008441.5
专利权人武汉新芯集成电路制造有限公司
申请人武汉新芯集成电路制造有限公司
发明人/设计人胡堃
公告日2019-12-20
公告号CN110587471A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本发明公开了一种自清洁防护罩,属于半导体技术领域,包括:自清洁防护罩由第一罩部件和至少一个第二罩部件拼接而成,第一罩部件和每个所述第二罩部件拼接形成一通孔,通孔的周向环设有用于喷射流体的喷嘴;上述技术的有益效果是:通过于通孔周围增加用于喷射流体的喷嘴,不仅使得底罩具备了自清洁的能力,于研磨工艺中实时的对进入底罩的研磨液飞雾进行清洗,减少了研磨液在防护罩上的沉积结晶,还通过喷嘴喷出的流体于底罩的通孔周围形成一气帘,避免研磨液飞雾进入底罩,起到一定的隔离作用,从而有效杜绝了抛光机台在研磨作业的过程中结晶物掉落的问题,避免出现研磨中的产品被结晶物划伤表面的现象,提高了产品的良率。
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