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专利名称一种便于在线监控的凹陷结构及其制备方法
申请日2019-10-08
申请号/专利号CN201910948614.5
专利权人上海集成电路研发中心有限公司
申请人上海集成电路研发中心有限公司
发明人/设计人康晓旭
公告日2020-01-21
公告号CN110718533A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本发明公开了一种便于在线监控的凹陷结构,包括介质层Ⅰ和位于介质层Ⅰ上方的介质层Ⅱ,所述介质层Ⅰ中包括金属通孔和金属接触层,所述金属接触层位于所述金属通孔的上方;所述介质层Ⅱ中包括位于金属接触层上方的锥形凹槽,所述锥形凹槽具有倾斜侧壁,且所述锥形凹槽远离金属接触层的水平截面面积大于所述锥形凹槽靠近金属接触层的水平截面面积;所述倾斜侧壁上覆盖反射薄膜。本发明提供的一种便于在线监控的凹陷结构及其制备方法,通过监控系统成像所得的亮暗相间的环状图像,可以快速识别凹陷结构中缺陷。
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