本发明公开了一种通过亚分辨率辅助图形改善接触孔工艺热点的OPC修正方法，包含：步骤1、对原始光刻版图图形进行OPC修正，筛选出光刻仿真值偏离目标值的接触孔图形，标记工艺热点的位置；步骤2、检查工艺热点图形位置附近的亚分辨率辅助图形的散射条的空间取向，将构成亚分辨率辅助图形的散射条的空间取向定义为第一方向；步骤3、改变工艺热点图形附近的亚分辨率辅助图形空间取向，旋转部分散射条的第一方向为第二方向；步骤4、再次对接触孔版图图形进行OPC修正，得到最终的掩模板版图，并再次利用光学仿真检查OPC修正效果。本发明能够减少接触孔版图图形中，受到掩模板最小尺寸规则限制而产生的图形缺陷，消除工艺热点，提升器件性能。