本发明公开了一种改善PVD设备反应腔体颗粒稳定性的装置，所述PVD设备反应腔体内部具有一钟形罩，所述钟形罩为淀积工艺提供一容置空间；所述钟形罩上安装有风扇，以及风扇控制系统；所述风扇控制系统包含控制器及多个温度传感器。通过对PCXT腔体钟形罩增加多温度测控点，以及风扇工作状态的控制系统，针对钟形罩上不同温度点的监控，以及风扇电机自身工作温度的监控进行综合分析，风扇控制系统实时调节风扇的转速，使钟形罩调节到理想温度，从而保证腔体内的环境颗粒达到最佳效果。