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专利名称断线热点的光刻友善性设计检查方法
申请日2019-09-30
申请号/专利号CN201910938176.4
专利权人上海华力集成电路制造有限公司
申请人上海华力集成电路制造有限公司
发明人/设计人陈江先;朱忠华;姜立维;魏芳
公告日2020-01-07
公告号CN110658696A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本发明公开了一种断线热点的光刻友善性设计检查方法,包括:步骤一、进行仿真形成曝光仿真轮廓图形;步骤二、对设计图形按设计线宽进行分类;步骤三、确定各类轮廓图形的线尾过滤区域宽度参量值:步骤31、在轮廓图形的尾部确定多个依次增加的截取横坐标;在各截取横坐标处截取轮廓图形的宽度;步骤32、统计出各类轮廓图形在各截取位置处的宽度最小值并作为截边宽度最小值,作出截边宽度最小值随截取横坐标变化的趋势图;步骤33、从趋势图确定拐点位置对应的横坐标并作为线尾过滤区域宽度参量值;步骤四、按照线尾过滤区域宽度参量值确定线尾过滤区的大小,进行光刻友善性设计检查。本发明能在保证真正断线热点不漏报的前提下减少热点数量,从而提高工作效率。
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