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专利名称一种双向阈值开关选择器件及其制备方法
申请日2019-09-27
申请号/专利号CN201910924689.X
专利权人北京大学
申请人北京大学
发明人/设计人蔡一茂;康健;王宗巍;凌尧天;喻志臻;陈青钰;鲍霖;吴林东;黄如
公告日2020-02-04
公告号CN110752293A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本发明提供一种双向阈值开关选择器件及其制备方法,属于半导体和CMOS混合集成电路技术领域。本发明利用势垒层薄膜和阈值开关特性的薄膜叠加效应,可以实现对选择管器件的电流‑电压特性进行优化,使该器件展现出对称双向阈值开关选择的特性。本发明基于采用传统CMOS工艺来实现双向阈值开关选择管器件,以期降低甚至消除阻变存储器的crossbar结构中存在的串扰问题。
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