本发明涉及到光学材料领域，具体涉及到一种双酯酸保护结构单体及其制备方法。一种双酯酸保护结构单体，用作集成电路制作中所需光刻胶的原材料，因其具有双酯长侧链能够使光刻胶具有较好的成膜性能，又由于其悬挂在外的小体积、高酸敏基团能够提高光刻工艺中去保护反应效率，因此提高光刻产品的质量，此外通过本发明提供的工艺方法制得的双酯酸保护结构单体，具有较高的产率和纯度，进一步保证了光刻胶的性能。