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专利名称一种单片晶圆测试多台设备的方法
申请日2019-09-09
申请号/专利号CN201910849155.5
专利权人福建省福联集成电路有限公司
申请人福建省福联集成电路有限公司
发明人/设计人吴恋伟;林元鼎;邓丹丹;郭文海;翁佩雪;赵玉会;林锦伟
公告日2020-01-31
公告号CN110739241A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本发明公开了一种单片晶圆测试多台设备的方法,包括以下步骤:应力测试仪对裸硅晶圆进行应力前置测试,获取前置应力值;将裸硅晶圆置入化学气相沉积设备中,对应力测试后的裸硅晶圆沉积氮化硅,膜厚测试仪对沉积氮化硅的硅晶圆进行膜厚和折射率测试,获取氮化硅膜厚和折射率作为化学气相沉积设备测机参数,以及应力测试仪对沉积氮化硅的硅晶圆进行后置应力测试,获取第一后置应力值。本方案省去多道传统检测工艺步骤,简化测机工艺流程,缩短了检测周期,减少测机片的使用,提高检测效率。
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