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专利名称氧化锶栅介质层柔性氧化物薄膜晶体管及其制造方法
申请日2019-02-25
申请号/专利号CN201910138860.4
专利权人天津大学
申请人天津大学
发明人/设计人秦国轩;裴智慧
公告日2019-06-21
公告号CN109920847A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本发明涉及柔性器件领域,为设计并制备一种基于SrOx栅介质层的底栅结构晶体管,采用磁控溅射的低温工艺,在较为简便的工艺中设计并制备底部驱动的柔性薄膜晶体管,能够极大丰富晶体管作为电路元器件的用处,使得该柔性器件在大规模集成电路和光电器件的应用提供可能,本发明,氧化锶栅介质层柔性氧化物薄膜晶体管及其制造方法,聚酰亚胺PI柔性衬底自下而上依次为金属底栅层、SrOx栅介质膜和氧化铟In2O3薄膜,金属底栅层引出栅极,顶部设置源、漏电极,源、漏电极分别与SrOx栅介质膜和In2O3薄膜连通。本发明主要应用于柔性器件、晶体管设计制造场合。
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