本发明提供的一种集成电路结构性能的优化方法，所述优化方法包括：提供一集成电路结构，所述集成电路结构设置有至少一个晶体管；获取所述集成电路结构的性能；依据所述集成电路结构的性能确定所述晶体管的性能；依据所述晶体管的性能确定覆盖至所述晶体管的栅极结构上的应力绝缘膜；其中，所述应力绝缘膜用于改变所述晶体管的性能。该优化方法满足了SoC设计中电路不同部分对晶体管性能需求的精确匹配，从而在确保电路性能得到满足的情况下，尽可能降低SoC的功耗，特别是亚阈值极低功耗SoC的功耗，进而提高SoC的工作能效。