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专利名称一种低热阻的厚膜多层布线结构
申请日2019-01-31
申请号/专利号CN201920175266.8
专利权人中国电子科技集团公司第四十三研究所
申请人中国电子科技集团公司第四十三研究所
发明人/设计人郑静;卫敏;董晓伟;何汉波
公告日2019-10-25
公告号CN209544335U
法律状态有效
专利类型实用新型
行业分类集成电路

摘要

本实用新型的一种低热阻的厚膜多层布线结构,可解决厚膜多层布线产品大功率芯片散热不佳的技术问题。包括基板,所述基板为厚膜基板,所述基板下表面印刷背面金属化材料,所述金属化材料为厚膜导体,所述基板上表面印刷内层导体和顶层焊区;所述内层导体为厚膜导体,所述内层导体为N个,1≤N≤3,所述内层导体之间印刷介质,所述介质为厚膜介质;所述介质上纵向设置过孔,所述过孔上设置厚膜过孔导体;所述顶层焊区为厚膜焊接导体,所述顶层焊区上表面上组装功率芯片。本实用新型的一种低热阻的厚膜多层布线基板通过阵列式过孔结构,为混合集成电路功率芯片提供了有效的散热通道,实现了厚膜多层布线基板上降低功率芯片散热通路热阻的技术目标。
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