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专利名称镧化合物以及使用该镧化合物形成薄膜和集成电路器件的方法
申请日2019-01-21
申请号/专利号CN201910053529.2
专利权人三星电子株式会社;株式会社ADEKA
申请人三星电子株式会社;株式会社ADEKA
发明人/设计人朴圭熙;金润洙;林载顺;曹仑廷;原野一树;佐藤晴义;白鸟翼;山田直树
公告日2019-09-24
公告号CN110272438A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

公开了镧化合物、合成薄膜的方法以及制造集成电路器件的方法,所述化合物由以下式1表示,其中,在式1中,R1是氢原子或者C1‑C4直链或支链烷基,R2和R3各自独立地是氢原子或者C1‑C5直链或支链烷基,R2和R3中的至少一个是C3‑C5支链烷基,并且R4是氢原子或者C1‑C4直链或支链烷基。[式1]
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