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| 专利名称 | 基于图形参数空间调整光刻模型覆盖特殊结构的方法 |
| 申请日 | 2018-12-29 |
| 申请号/专利号 | CN201811630056.X |
| 专利权人 | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 申请人 | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 发明人/设计人 | 俞海滨;于世瑞;赵璇 |
| 公告日 | 2019-03-19 |
| 公告号 | CN109491217A |
| 法律状态 | 审中 |
| 专利类型 | 发明 |
| 行业分类 | 集成电路 |
摘要
本发明将特殊结构加入到光刻模型数据中，在标准图形参数空间的基础上，通过对其中部分数据结构的比重数值进行调整，继而实现对光刻模型进行微调，改善原有光刻模型的目标，在对原有数据模拟图形不产生变化或变化很小的前提下，使得新光刻模型再次能够覆盖特殊结构。
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