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专利名称像素阵列版图的制作方法及像素阵列的制作方法
申请日2018-12-28
申请号/专利号CN201811629405.6
专利权人上海集成电路研发中心有限公司
申请人上海集成电路研发中心有限公司
发明人/设计人伍强;杨渝书;李艳丽;蒋亮亮;朱鸣
公告日2019-03-29
公告号CN109543351A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本发明提供了一种像素阵列版图的制作方法和一种像素阵列制作方法,通过改变原始周期性像素阵列版图的某一区域内的多个像素单元的大小来实现像素单元在平面空间上的随机分布/近似随机分布,且通过进一步对所述选取的区域内的所述感光单元的形状进行调整,以使同一所述像素单元的各所述感光单元所占面积比例不变,或按各所述感光单元的面积改变的比例调整与各所述感光单元对应的所述电容单元的面积,以形成目标像素阵列版图。由于形成的所述目标像素阵列版图的周期性遭到了破环,因此通过所述目标像素阵列版图形成的目标像素阵列用以形成图像传感器对周期性图像进行成像时莫尔条纹的强度得到降低甚至不会再出现莫尔条纹。
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