本发明提供了一种蓝宝石衬底片成品清洗工艺，本发明属于晶片加工制作技术领域。采用本发明方法，通过上下抛动，改变蓝宝石衬底晶片在超声波同一位置避免了晶片背面局部打花的现象，充分保持整个晶片在清洗液中的清洗效果，本发明不仅避免了抛光液难清洗，清洗不彻底，清洗不稳定等各种难题。而且提高了生产效率和产品的稳定清洗能力，同时所用清洗剂的浓度较低，既降低了成本，而且对环境的影响小。通过本发明可以将氧化铝抛光液抛光后蓝宝石衬底晶片表面清洗干净，使晶片表面脏污数量控制在100以内，达到目前行业要求；并使得批量生产时，一次清洗率达到98％以上。