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专利名称一种湿法蚀刻用化学槽
申请日2018-12-26
申请号/专利号CN201811604690.6
专利权人中芯集成电路(宁波)有限公司
申请人中芯集成电路(宁波)有限公司
发明人/设计人唐秋菊
公告日2019-05-03
公告号CN109712914A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本发明公开了一种湿法蚀刻用化学槽,包括:第一槽体,第一槽体具有刻蚀区,用于放置刻蚀件;刻蚀件承载部,设置于刻蚀区周围,具有至少一个沿第一方向排列的第一卡槽;转动部,设置于刻蚀区周围,设置有至少一个沿第一方向的第二卡槽;喷洒部,具有至少一个喷口,用于向刻蚀区喷洒刻蚀液。本发明的湿法蚀刻用化学槽通过转动部的转动带动竖立的刻蚀件沿刻蚀件中心轴转动,使喷洒部喷射的化学品均匀地喷射在转动的刻蚀件上,而不是刻蚀件待蚀刻面的固定区域,使得溢流对刻蚀件待蚀刻面所造成的流体形状更弱,刻蚀件蚀刻均匀性更好,解决了传统湿法化学槽造成关键尺寸、侧掏、金属掩膜层均匀性差等问题,提高了金属湿式蚀刻的均匀性。
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