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专利名称一种化学机械抛光系统及其工作过程
申请日2018-12-24
申请号/专利号CN201811581768.7
专利权人上海华力集成电路制造有限公司
申请人上海华力集成电路制造有限公司
发明人/设计人夏文羽;吴科;同小刚;陈智;文静;张传民
公告日2020-02-07
公告号CN109623632B
法律状态有效
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本发明提供一种化学机械抛光系统,涉及集成电路生产工艺,包括:研磨液供给装置、研磨液循环装置和研磨机台,所述研磨液循环装置位于连通所述研磨液供给装置与所述研磨机台的研磨液流通管路中,其中当化学机械抛光系统正常工作时,所述研磨液供给装置提供研磨液,研磨液通过所述研磨液流通管路和所述研磨液循环装置供给所述研磨机台以进行化学机械抛光;当化学机械抛光系统发出故障报警后,所述研磨液供给装置停止工作,所述研磨液循环装置供应研磨液给所述研磨机台以进行化学机械抛光,以提高晶圆的成品率、生产效率,降低成本。
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