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专利名称金属层器件辅助图形的生成方法
申请日2018-12-12
申请号/专利号CN201811515649.1
专利权人上海华力集成电路制造有限公司
申请人上海华力集成电路制造有限公司
发明人/设计人邓国贵;陈燕鹏;王丹;于世瑞
公告日2019-04-12
公告号CN109614705A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本发明公开了一种金属层器件辅助图形的生成方法,包括获取含金属层、通孔和所有避让层的原始设计版图;通过版图逻辑运算选出若干种线宽的金属线并筛选出与旁边不同电位的金属线之间的距离大于冗余金属到金属线之间的最小距离的两倍与最小金属线宽之和的外扩边,将外扩边分别往外扩大第一尺寸和第二尺寸,分别得到第一多边形和第二多边形,第一尺寸小于第二尺寸;去除第一多边形与第二多边形重叠的部分和进入禁入区域的部分,获得第一金属层器件临时辅助图形;对第一金属层器件临时辅助图形进行后处理,形成第一金属层器件辅助图形。本发明能在较小的金属线宽附近生成跟它本身尺寸类似或相同的辅助图形,从而减小图形密度不同导致的金属刻蚀后线宽差异。
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