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专利名称SRAM的6T存储单元结构
申请日2018-12-12
申请号/专利号CN201811515717.4
专利权人上海华力集成电路制造有限公司
申请人上海华力集成电路制造有限公司
发明人/设计人周晓君
公告日2019-03-19
公告号CN109494223A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本发明公开了一种SRAM的6T存储单元结构,由第一和第二选择管、第一和二PMOS管、第一和第二NMOS管连接成6T存储单元结构,两个选择管分别形成在第一和二有源区中;两个PMOS管形成在第三有源区中;两个NMOS管形成在第四有源区中;第一和第二有源区都具有第一宽度,第三有源区具有第二宽度,第四有源区具有第三宽度,第三宽度大于第一宽度大于第二宽度,用以优化电路读窗口和写窗口,沟道区宽度相同的晶体管设置在相同的有源区中,各有源区都分别采用相同的宽度的设置,能防止有源区宽度渐变。本发明能消除有源区的宽度变化对晶体管的沟道长度和宽度的影响,从而能提高器件之间的匹配度并从而提高良率,能增大工艺窗口。
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