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专利名称针对金属层工艺热点的亚分辨率辅助图形设置方法
申请日2018-11-22
申请号/专利号CN201811396619.3
专利权人上海华力集成电路制造有限公司
申请人上海华力集成电路制造有限公司
发明人/设计人赵璇;王丹;于世瑞
公告日2019-03-12
公告号CN109459910A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本发明公开了一种针对金属层工艺热点的亚分辨率辅助图形设置方法,包括以下步骤:筛选出金属层工艺热点的金属边区域;对筛选出的金属边生成标记;对金属层版图进行常规的规则式光学临近效应修正;判断被标记的金属边的邻边的长度,根据不同的邻边长度优化亚分辨率辅助图形的参数。本发明针对金属层中工艺窗口较小的工艺热点进行优化,添加亚分辨率辅助图形并对其参数进行优化,能够有效地增大工艺窗口,避免工艺窗口较小导致的金属线短路问题,降低工艺风险,提升产品良率。
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