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专利名称一种红外探测器的制备方法
申请日2018-11-09
申请号/专利号CN201811329238.3
专利权人无锡元创华芯微机电有限公司
申请人无锡元创华芯微机电有限公司
发明人/设计人许勇;王大甲;周龙飞;王春雷
公告日2019-03-15
公告号CN109470369A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本发明提供了一种红外探测器的制备方法,涉及红外探测器技术领域。其包括:涂覆聚酰亚胺层;涂覆光刻胶,对聚酰亚胺进行等离子体反应刻蚀,形成桥墩处的通道图形Ⅰ;沉积介质层覆盖聚酰亚胺;沉积热敏感膜、介质层;并形成图形;沉积介质层作为保护薄膜;涂覆光刻胶,刻蚀桥墩处的通道图形Ⅱ;沉积厚金属填充通道图形Ⅱ,并图形化;在热敏感膜上的介质层上,刻蚀形成槽状结构;沉积金属并图形化;沉积介质层保护层;光刻刻蚀释放通道;释放聚酰亚胺层,形成桥墩支撑、悬空的像元结构。本发明提供的一种红外探测器的制备方法,加强像元的导电性和牢靠性,以改善和解决像元尺寸缩小引进的新问题,且工艺稳定,重复性好,适用于大批量的在线生产。
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