便携式应急电源
镀铜焊丝的缺陷检测方法、装置、设...
电码的自动识别方法及存储介质
基于强化学习的楼栋摆放方法、装置...
用于观测水下生物的系统及其方法
一种电子设备的空中固件差分升级方...
一种印刷模切张力自动控制系统及其...
低功耗状态监控设备
一种利用RTP扩展头部解决视频帧...
一种高衍射效率相位型空间光调制器...
一种家装板材运输用包装机器人
航空发动机精密管路及其航空发动机...
宽光谱吸收的薄膜太阳能电池及光伏...
一种基于磁通压缩的脉冲磁体装置及...
一种总线访问仲裁装置及方法
一种处理网络抖动的方法及装置
基于光芯片的数据处理方法、装置、...
一种基于小基线条件下的大畸变广角...
一种自动识别设备间网络拓扑结构的...
基于光芯片的数据处理方法、装置、...
企业介绍页面,左右侧内容分别复制到相应容器即可,起始结束位置代码已作标注
专利名称改善金属层工艺热点的OPC修正方法
申请日2018-11-08
申请号/专利号CN201811323106.X
专利权人上海华力集成电路制造有限公司
申请人上海华力集成电路制造有限公司
发明人/设计人陈燕鹏;李林;于世瑞
公告日2019-01-18
公告号CN109240049A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本发明公开了一种改善金属层工艺热点的OPC修正方法,包括:S1,截取OPC修正无法匹配目标层或MEEF较大的工艺热点的版图;S2,调整pxOPC脚本参数,对所截取的版图运行pxOPC,得到掩模板层;S3,使用OPC模型对pxOPC得到的掩模板层进行仿真得到模拟图形层;S4,将模拟图形层替换后续生成掩模板的OPC修正过程中使用的弯曲目标层,或者对生成弯曲目标层的OPC参数进行调整,使生成的弯曲目标层与模拟图形层一致或接近;S5,使用OPC模型进行常规的OPC修正,生成最终的符合OPC要求的掩模板层。本发明将pxOPC的建议结果用于OPC修正过程中,不需要更改复杂的参数和缩短掩模板层的分段,可以简化OPC修正过程,确保得到的掩模板图形与OPC目标层更接近,便于掩模板制造和光刻工艺稳定性。
  关于我们  | 帮助中心  |  服务清单  |  发展历程 |  网站地图  |  手机访问

Copyrights 2016-2020  

南京锐阳信息科技有限公司 版权所有

苏ICP备17027521号-1

地址: 南京市秦淮区永智路5号五号楼3层