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专利名称在集成电路电阻器中实现更高电流密度的结构
申请日2018-11-08
申请号/专利号CN201811324417.8
专利权人德州仪器公司
申请人德州仪器公司
发明人/设计人D·坎德;阿尔莎娜·韦努戈帕尔
公告日2019-05-14
公告号CN109755240A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本发明涉及一种用以在集成电路电阻器中实现较高电流密度的结构。一种集成电路(100),其具有包含半导体材料(104)的衬底(102),及在互连区域(112)中在第一级互连线(120)上面的电阻器(128)。所述集成电路(100)进一步包含电隔离热导管(130),其在低于所述电阻器(128)的每一互连级中具有一或多个互连线(120)。所述热导管(130)的所述互连线(120)通过一或多个垂直互连件,包含触点(122),及可能通孔(126))直接连接到位于在所述衬底(102)的所述半导体材料(104)上方的介电材料(106)上的栅极结构(132)。所述热导管(130)与所述电阻器(128)、所述集成电路(100)中的所有有源组件(108)以及所述衬底(102)的所述半导体材料(104)电隔离。
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