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专利名称用于先进的集成电路结构制造的差异化电压阈值金属栅极结构
申请日2018-11-05
申请号/专利号CN201811307015.7
专利权人英特尔公司
申请人英特尔公司
发明人/设计人J.S.莱布;J.胡;A.达斯古普塔;M.L.哈滕多夫;C.P.奥思
公告日2019-06-07
公告号CN109860181A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本公开的实施例属于先进的集成电路结构制造的领域,并且具体为10纳米节点以及更小的集成电路结构制造和所得到的结构。在示例中,一种集成电路结构包括鳍片。栅极电介质层处于鳍片的顶部之上并且侧向邻接鳍片的侧壁。N型栅电极处于鳍片的顶部之上的栅极电介质层之上并且侧向邻接鳍片的侧壁,N型栅电极包括在栅极电介质层上的P型金属层和在P型金属层上的N型金属层。第一N型源极或漏极区域邻接栅电极的第一侧。第二N型源极或漏极区域邻接栅电极的第二侧,第二侧与第一侧相对。
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