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专利名称过滤器结构以及包括过滤器结构的设备
申请日2018-10-29
申请号/专利号CN201811265066.8
专利权人三星电子株式会社
申请人三星电子株式会社
发明人/设计人高次元;奥列格·费根森;金重铉;金贤友;金垠成
公告日2019-08-02
公告号CN110075713A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

提供了一种用于在制造集成电路中使用的化学溶液的过滤器结构以及一种包括该过滤器结构的设备。所述过滤器结构包括:第一膜结构,包括多个膜单元,所述多个膜单元中的每个包括包含多个第一开口的阴极、包括多个第二开口的阳极以及位于阴极与阳极之间的绝缘层;以及过滤器外壳,被构造成在其中容纳第一膜结构,过滤器外壳包括化学溶液通过其引进的入口和化学溶液通过其排出的出口。第一膜结构被构造成使得当在通过入口引进的化学溶液通过第一膜结构的同时将电场施加在阴极与阳极之间时,化学溶液中的具有带正电颗粒和带负电颗粒两者的杂质被俘获在第一膜结构中。
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