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专利名称一种防漏光全局像素单元的结构和形成方法
申请日2018-09-28
申请号/专利号CN201811139934.8
专利权人上海集成电路研发中心有限公司;成都微光集电科技有限公司
申请人上海集成电路研发中心有限公司;成都微光集电科技有限公司
发明人/设计人顾学强;王言虹;陈力山
公告日2019-03-01
公告号CN109411493A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本发明公开了一种防漏光全局像素单元的结构,在传输管栅极表面、复位管栅极表面和存储节点表面上覆盖有金属掩蔽层,金属掩蔽层在存储节点上方形成金属掩蔽层开口;存储节点之上连接设有穿过金属掩蔽层开口的第一接触孔,传输管栅极的金属掩蔽层之上隔离设有第二接触孔,复位管栅极的金属掩蔽层之上隔离设有第三接触孔,第一接触孔至第三接触孔的上端连接后道第一层金属互连层,并与后道第一层金属互连层共同形成一复合挡光结构,将第一接触孔与金属掩蔽层开口之间存在的漏光间隙遮蔽,可保证存储电容中信号的准确性,避免输出信号的失真。本发明还公开了一种防漏光全局像素单元的结构的形成方法。
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