本发明公开了一种解决高透光率晶圆在光刻对位中无法识别的方法，是在高透光率晶圆背面形成低透光率膜，进行常规光刻过程，然后去除所述低透光率膜。该方法可以显著降低透光率，使高透光率晶圆传送至曝光台，从而完成一道关键性的光刻工艺。本发明的方法低成本，高效率，工艺简单，不影响晶圆的质量，与显影液互不影响，不受前烘和坚膜温度影响，不污染机台且膜容易去除；是一种经济简单、普适性强的方法。