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专利名称包括静电放电保护图案的半导体器件及其制造方法
申请日2018-09-21
申请号/专利号CN201811110552.2
专利权人三星电子株式会社
申请人三星电子株式会社
发明人/设计人卢廷铉
公告日2019-04-05
公告号CN109585440A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

提供了包括静电放电保护图案的半导体器件及其制造方法。所述半导体器件可包括在基板上的前道工序区,其中,所述前道工序区可包括静电放电保护电路和与所述静电放电保护电路电连接的集成电路。后道工序区可在所述前道工序区上,并且静电放电保护图案可在所述基板的划片区上。所述静电放电保护图案可包括下部图案,所述下部图案沿着所述基板延伸并且具有暴露在所述后道工序区外部的侧表面。通路可电连接到所述下部图案并且垂直于所述基板延伸,并且上部图案可电连接到所述通路。
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