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专利名称化学机械研磨装置及其操作方法
申请日2018-09-12
申请号/专利号CN201811060362.4
专利权人上海华力集成电路制造有限公司
申请人上海华力集成电路制造有限公司
发明人/设计人李昱廷;却玉蓉;刘怡良;陈建勋
公告日2019-01-15
公告号CN109202724A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本发明涉及一种化学机械研磨装置,涉及半导体器件的生产过程,包括一光学影像检测仪及一研磨装置控制装置,所述光学影像检测仪用于获取化学机械研磨装置内的修整盘于修整化学机械研磨装置内的研磨垫前的影像及于修整所述研磨垫后的影像,所述研磨装置控制装置连接所述光学影像检测仪,接收所述光学影像检测仪获取的所述修整盘于修整所述研磨垫前的影像及所述于修整所述研磨垫后的影像,并基于所述修整盘于修整研磨垫前的影像及所述于修整研磨垫后的影像输出一控制信号,所述控制信号控制所述化学机械研磨装置的工作,以提高半导体器件的良率。
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