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专利名称一种用于纳米激光器的高斯型金属半导体谐振腔
申请日2018-09-12
申请号/专利号CN201811062861.7
专利权人南京理工大学
申请人南京理工大学
发明人/设计人张柏富;朱康;武恒;胡海峰
公告日2019-01-18
公告号CN109244827A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本发明公开了一种用于纳米激光器的高斯型金属半导体谐振腔,谐振腔是由半导体材料外包金属壳层构成的双凹形半导体谐振腔,具有高斯光束形状的谐振腔结构。本发明提出了一种新型的高斯型的谐振腔结构来减小金属半导体腔的表面等离激元损耗,这种谐振腔的圆弧形反射面可以将谐振模式集中在腔的中心,使谐振模式的场分布远离金属侧壁从而有效减少金属损耗;谐振腔的弯曲侧壁减小谐振模式垂直于金属侧壁的电场分量,可以进一步抑制表面等离激元损耗;通过合理设计谐振腔的反射面以及弯曲侧壁,可以有效的降低激发谐振腔的阈值电流,为纳米激光器的谐振腔设计及其在光子集成电路、光互连等相关领域提供了技术参考。
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