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专利名称晶圆级封装方法以及封装结构
申请日2018-09-04
申请号/专利号CN201811026720.X
专利权人中芯集成电路(宁波)有限公司
申请人中芯集成电路(宁波)有限公司
发明人/设计人罗海龙;克里夫·德劳利
公告日2020-03-10
公告号CN110875202A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

一种晶圆级封装方法以及封装结构,晶圆级封装方法包括:提供器件晶圆,形成有多个第一芯片,第一芯片表面形成有第一电极,器件晶圆上形成有露出第一电极的第一介质层;提供多个第二芯片,表面形成有第二电极,第二芯片上形成有露出第二电极的第二介质层;将第二介质层与第一介质层相对设置并键合,在第一电极和第二电极之间形成空腔;在空腔中形成芯片互连结构;在第二芯片以及第二芯片露出的第二介质层、芯片互连结构和器件晶圆上保形覆盖绝缘层;在绝缘层上保形覆盖屏蔽层;在屏蔽层上形成封装层。本发明通过通孔互连结构,简化封装方法、减小封装结构体积,且由于绝缘层和屏蔽层通过保形覆盖的方式形成,因此减小了封装结构的体积和厚度。
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