本发明涉及一种集成电路的密封环结构及其形成方法，该密封环结构包括：限定该集成电路的一第一部分的一第一不连续密封壁，该第一密封壁形成一第一图案于一基板上，以及限定该集成电路的一第二部分的一第二不连续密封壁，该第二密封壁形成一第二图案于该基板上，且该第二部分至少部分地偏离该第一部分，其中，该第一密封壁的该第一图案与该第二密封壁的该第二图案互锁，使得该些图案交织而不相交，其中，一间隔形成于该些密封壁之间，该间隔生成通至该集成电路的一非线性路径，且其中，该密封环结构完全限定该集成电路。一种形成这种密封环结构的方法也被公开。