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专利名称半导体器件和方法
申请日2018-08-27
申请号/专利号CN201810979949.9
专利权人台湾积体电路制造股份有限公司
申请人台湾积体电路制造股份有限公司
发明人/设计人黄子松;余振华;郭鸿毅;蔡豪益;曾明鸿
公告日2019-04-05
公告号CN109585309A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类集成电路

摘要

本发明的实施例公开了半导体器件及其形成方法。在一个实施例中,一种半导体器件包括:在第一介电层上的导电屏蔽件;在第一介电层和导电屏蔽件上的第二介电层,第一和第二介电层围绕导电屏蔽件,第二介电层包括:沿着导电屏蔽件的外围设置的第一部分;延伸穿过导电屏蔽件的中心区域的第二部分;以及延伸穿过导电屏蔽件的通道区的第三部分,第三部分将第一部分连接至第二部分;在第二介电层上的线圈,线圈设置在导电屏蔽件上方;在第二介电层上的集成电路管芯,集成电路管芯设置在线圈的外部;以及围绕线圈和集成电路管芯的密封剂,密封剂、集成电路管芯和线圈的顶表面是平齐的。
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