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专利名称一种半导体加工装置
申请日2019-11-27
申请号/专利号CN201911180862.6
专利权人湖南大合新材料有限公司
申请人湖南大合新材料有限公司
发明人/设计人陈琳;张明文;潘永志;龙洪波;陈坚
公告日2020-03-06
公告号CN110860957A
法律状态审中
专利类型发明
行业分类新材料

摘要

本发明公开了一种半导体加工装置,包括壳体,所述壳体顶部设有透明的观察窗,所述壳体侧边还设有仓门,所述壳体内部设有夹持件,夹持件上设有打磨轮,打磨轮连接有驱动转轴,驱动转轴向上延伸伸出所述壳体外部,所述驱动转轴顶端部动力连接有驱动电机,所述壳体侧壁上还连通有吸收管,所述吸收管内部设有风机,所述吸收管出口连通有回收箱,回收箱对抛光产生的碎末进行吸收。可对抛光产生的碎末及时吸收。
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